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为什么说二氧化硅的加入可以改善聚酰亚胺(PI)薄膜的性能

作者:聚酰亚胺(PI)薄膜 发布时间:2022-11-08 14:44:28点击:55

了解电子领域的朋友对聚酰亚胺(PI)薄膜并不陌生。聚酰亚胺是一种常见的含有酰亚胺重复单元的高分子特种工程材料,具有适用温度广、耐化学腐蚀、强度高、绝缘性能高等优点(103 Hz时介电常数为4.0,介电损耗仅为0.004~0.007,属于F-H绝缘)。作为一种的工业电气屏蔽材料,它于1961年由杜邦公司推出。

发展到我们今天,聚酰亚胺已被广泛应用在航空、航天、微电子、纳米、液晶、分离膜、激光等领域。因其在性能和合成方面的能力突出学生特点,不论是中国作为经济结构进行材料或是企业作为一种功能性材料,其巨大的应用市场前景分析已经能够得到一个充分的认识,被称为是“解决这些问题的能手”(problemsolver),并认为“没有聚酰亚胺就不可能会有今天的微电子科学技术”。

二氧化硅可改善聚酰亚胺性能

由于聚酰亚胺是更好的屏蔽材料之一,它常被用于高频电力变压器的匝间绝缘。

然而,HFPT内部的高频正弦波会加剧器件内部核心表皮的冲击和邻近效应,导致相当大的介电退化和热增益。同时,由于界面上的热逃逸通量密度远低于相同间隙的气隙崩溃幅值,更容易在HFPT失效处发展蠕变放电,最终导致绝缘系统失效。因此,为了延长聚酰亚胺的使用寿命,研究其高频沿面放电并改善相关缺陷具有重要意义。

一篇学习相关课程论文通过发表在《聚合物》杂志上,研究工作人员将不同掺杂的纳米SiO2引入到聚酰亚胺中进行分析纳米材料复合改性。对优良电压应力放电寿命的测量数据结果可以表明,掺杂10%SiO2的聚酰亚胺具有时间最长的使用网络寿命。

具体原理

报道了在聚酰亚胺中重构纳米纤维可以显著改善其耐电晕性、耐热性和其他性能,并且这些含硅颗粒中的杂质可以增强其抗氧化和绝缘性。

研究可以发现,入射光对材料的放电问题行为有显著相关影响。纳米结构复合建筑材料在近紫外和可见光区域的高吸附频率以及随着我国纳米技术复合功能材料的加入而向高频发展方向通过移动,导致了红移。这说明SiO2加入后,SiO2更能有效吸收可见光,容易产生形成一个粒子间传导电子交联,促进聚酰亚胺载流子复合物的形成,改善教学材料的静电相互监督作用,增强复合膜的压缩性和发射灵敏度。

随着SiO2粒子的掺杂,聚酰亚胺薄膜的介电值逐渐降低,复合材料的结构特性、光吸收质量和陷阱色散都起着重要作用。


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